早在1980年，科學(xué)家便已發(fā)現(xiàn)了膠體半導(dǎo)體納米晶體 — 即量子點 (QD)，其直徑大小通常只有2 - 10納米 (nm)。
具有鮮艷色彩的量子點，從紫色到深紅色。圖片版權(quán)歸屬：Alexei Antipov / Wikimedia Commons / CC-BY-SA-3.0 / GFDL
目前，這種材料已投入商業(yè)化生產(chǎn)，廣泛應(yīng)用于工業(yè)界包括平板顯示器 (FPD) 行業(yè)。
—在FPD應(yīng)用中，QD有望提高效能并降低功耗，增加亮度和色彩飽和度，延長顯示器使用壽命，并降低當前FPD技術(shù)（包括有機發(fā)光二極管 (OLED) 技術(shù)）的成本。
人們普遍認為，QD設(shè)備的問世將會創(chuàng)造一種新的范式，這將終結(jié)液晶顯示器 (LCD) 的市場壟斷地位，并由開發(fā)出的新型低成本的薄膜晶體管 (TFT) 產(chǎn)品取而代之。QD對平板顯示器 (FPD) 行業(yè)將產(chǎn)生深遠影響，但一切真的會從此改變嗎？
—Touch Display Research是一家獨立的技術(shù)市場調(diào)研和咨詢公司，該公司預(yù)測量子點顯示器和照明組件的市場價值到2016年年底將≥20億美元，到2025年將達到106億美元。由于QD技術(shù)的一個關(guān)鍵優(yōu)勢是無需對現(xiàn)有的FPD制程作出重大改變，這有助于盡早將該技術(shù)投入實際應(yīng)用。市場因此預(yù)期, QD LED或量子點發(fā)光二極管 (QLED) 顯示器將成為繼OLED顯示器之后的下一代顯示技術(shù)。
QLED的結(jié)構(gòu)與OLED設(shè)備非常相似，它們均采用TFT矩陣有源處理每個像素。然而，使用模式化的QD取代標準發(fā)旋光性聚合物作為發(fā)射層，則具有顯著的優(yōu)勢。這些優(yōu)勢包括純色和完全可再現(xiàn)的色彩空間標準（如Adobe RGB），并能夠帶來比最先進的OLED還要高出30 – 40%的發(fā)光效率。QD還可能促成各種尺寸及形狀的透明和超薄顯示器的出現(xiàn)，這是現(xiàn)有技術(shù)無法做到的。
運動控制和位置編碼器
封裝QLED制造工藝涉及精密的運動控制, 其制造工藝將圍繞兩項技術(shù)展開：電流體動力噴墨打印 (e-jet) 技術(shù)和接觸印刷技術(shù)。
E-jet打印技術(shù)是通過電場將墨滴從打印頭噴嘴吸出，從而得到納米級尺寸的墨滴。
然而接觸印刷技術(shù)，即透過采用彈性壓印模進行轉(zhuǎn)印，制造分辨率高達每英寸2460個紅-綠-藍像素點 (PPI) 的顯示器。QD檢索和印刷過程取決于對印模施加的正交力和印模速度。印模與基板的接觸面的調(diào)準和定位精度必須達到微米級，并且可重復(fù)覆蓋精度必須<500 nm，這些都是該技術(shù)要求達到的特性。在這種情況下，考慮到接觸印刷工藝在微米和納米級組件制造領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用前景，我們可以判斷，用于運動控制的精密增量式光柵系統(tǒng)的未來銷售狀況比較樂觀。現(xiàn)有的高效自動化轉(zhuǎn)印系統(tǒng)大多數(shù)包含X、Y和Z軸線性平臺，以及附加的移動/傾斜平臺，它們共同控制印模組件的操作并確保重復(fù)精度。
領(lǐng)先的編碼器解決方案
用于當前FPD制程的大型空氣軸承平臺，其典型運動誤差小于10微米或10角秒。顯然，需要對其性能做出改進，方可滿足未來QD設(shè)備/納米制造技術(shù)對運動控制精度的需求。
增量式光柵—例如雷尼紹緊湊型TONiC?系列光柵—是用于需要最高精度的伺服反饋的最佳解決方案。設(shè)計人員在尋找最佳的伺服控制性能解決方案時，要求編碼器具備如下特點：帶有精細細分、周期誤差低、信號噪音（抖動）小、封裝尺寸小，以及具有可選的模擬/數(shù)字輸出功能。雷尼紹的TONiC光柵具備低至±0.51 nmRMS的低信號抖動，周期誤差僅±30 nm，是同類產(chǎn)品中最低的。顯然，先進的光柵對未來納米制造技術(shù)的發(fā)展起著十分重要的作用。
感謝關(guān)注“雷尼紹中國”
