發布日期：2022-04-26 點擊率：53
華南師范大學華南先進光電子研究院，彩色動態電子紙顯示技術研究所的幾位研究員：韋必明，金名亮，吳 昊，竇盈瑩，周國富，水玲玲去年在華南大學學報自然科學版發表了一篇《大面積光刻膠線棒涂布工藝研究》，其研究表明通過線棒涂布方法可以涂布高粘度的涂料和大面積基材，而且簡單高效。
其采用OSP線棒涂布器，在研究涂布工藝上發現，使用硬度小的墊板（壓印床，南北潮注）可以得到更均勻的涂膜，并且由于柔軟墊板的支持作用，涂布速度在1.07~4.17cm/s之間和墊板高度在5~40mm之間膜厚基本不變。涂膜的厚度會隨著光刻膠粘度和涂布棒尺寸（南北潮注：根據作者通篇文章的介紹，此尺寸指的是濕膜厚度，即線棒號數大，膜厚更大，非長短或者直徑等問題）增大而增厚。此外，滴膠的量對涂膜厚度影響不大。
研究表明要獲得更均勻的涂膜，需要配備更軟的墊板、較低粘度的涂料和尺寸適中的涂布棒。這方面通過南北潮的采購數據也可得到印證。RK壓印床的使用確實受到了購買涂布棒用戶越來越多的青睞。
根據筆者的經驗，RK壓印床為硬質聚酯板+泡沫層+橡膠軟墊是比較合適手動刮樣的涂膜平臺。原因在于作者所采用的是自行設計的簡易自動涂膜機，而線棒涂布器更多是采用手工涂布。受力及涂布速度均受人為干擾。如果采用過軟底材，其受力勢必受到很大影響，特別是其涂膜上面還有一層遮蓋力紙或馬口鐵版，因過軟而帶來的傾斜或者紙張變形都是涂膜均勻性的不利條件。
【原文下載】
大面積光刻膠線棒涂布工藝研究_韋必明.pdf
下一篇： PLC、DCS、FCS三大控
上一篇： 索爾維全系列Solef?PV
